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確認(rèn)真空爐加熱保溫時(shí)刻的第一步是要了解待處理資料的特性。例如資料的密度、熱容、導(dǎo)熱系數(shù)等都會(huì)影響加熱保溫的時(shí)刻。關(guān)于熱容和導(dǎo)熱系數(shù)低的資料，加熱時(shí)刻需求相對(duì)較長(zhǎng)，以便讓整個(gè)資料到達(dá)預(yù)定的溫度。而關(guān)于高密度、高熱容、高導(dǎo)熱系數(shù)的資料來(lái)說(shuō)，加熱時(shí)刻則需求相應(yīng)縮短。

在核算真空爐工件加熱保溫時(shí)刻時(shí)，首要需求預(yù)算加熱時(shí)刻和保溫時(shí)刻。加熱時(shí)刻一般依據(jù)工件外表面積、密度和資料熱容等要素進(jìn)行預(yù)算，能夠參考以下公式核算： t1 = (m · Cp · ΔT) / P

真空燒結(jié)爐首要用于半導(dǎo)體元器件及電力整流器件的燒結(jié)工藝，可進(jìn)行真空燒結(jié)，氣體維護(hù)燒結(jié)及常規(guī)燒結(jié)，是半導(dǎo)體專(zhuān)用設(shè)備系列中一種新穎的工藝配備，它規(guī)劃構(gòu)思新穎，操作便利，結(jié)構(gòu)緊湊，在一臺(tái)設(shè)備上可完成多個(gè)工藝流程。亦可用于其他領(lǐng)域內(nèi)的真空熱處理，真空釬焊等工藝。

真空爐是在真空狀況下對(duì)物件進(jìn)行加工的熱處理設(shè)備，為了更好的確保熱處理作用和質(zhì)量，把握好設(shè)備正確的使用方法及保護(hù)是非常重要的。

真空爐一般由主機(jī)、爐膛、電熱設(shè)備、密封爐殼、真空體系、供電體系、控溫體系和爐外運(yùn)輸車(chē)等組成。

真空爐石墨支架頭的制造本錢(qián)相對(duì)較低，一起具有較長(zhǎng)的使用壽命和較低的保護(hù)本錢(qián)，因此具有較高的性?xún)r(jià)比。

在金屬熱處理過(guò)程中，需求運(yùn)用真空爐石墨支架頭支撐和固定加熱器，以保證爐內(nèi)的溫度分布均勻，提高金屬材料的功能和質(zhì)量